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實(shí)驗(yàn)真空氣氛爐原理

更新時(shí)間:2026-05-22      瀏覽次數(shù):463

一、核心原理

真空系統(tǒng):機(jī)械泵(低真空≈10?1 Pa)或機(jī)械泵 + 分子泵(高真空≈10?3~10?? Pa)抽除爐內(nèi)空氣,防氧化、脫碳。

氣氛控制:真空后通入 N?、Ar、H?等,形成保護(hù) / 還原環(huán)境;配流量計(jì)精準(zhǔn)控氣。

加熱系統(tǒng):電阻絲(≤1200℃)、硅碳棒(≤1400℃)、硅鉬棒(≤1700℃)發(fā)熱,PID 程序控溫(±1℃)。

爐體結(jié)構(gòu):雙層水冷 / 風(fēng)冷,高純氧化鋁陶瓷纖維爐膛,密封防漏氣。

二、關(guān)鍵參數(shù)(實(shí)驗(yàn)室主流)

溫度:1200℃、1400℃、1700℃(常用)

真空度:低真空(10?1 Pa)、高真空(10?3 Pa)

爐膛尺寸(mm):

小型:100×100×100(1L)

中型:200×150×150(4.5L)、300×200×200(12L)

氣氛:N?、Ar、H?(≤5% 防爆)、O?

控溫:30~50 段程序,升溫 1~15℃/min 可調(diào)。

三、典型應(yīng)用

新材料:鋰電材料(三元、磷酸鐵鋰)燒結(jié)、納米材料制備、陶瓷(Al?O?、ZrO?)燒結(jié)。

金屬:稀有金屬(W、Mo、Ti)退火、硬質(zhì)合金釬焊、粉末冶金燒結(jié)。

電子半導(dǎo)體:硅片退火、陶瓷基板金屬化、元器件真空除氣。

科研實(shí)驗(yàn):高校 / 院所材料合成、高溫相變、氣氛反應(yīng)研究。

四、2026 年參考價(jià)格(人民幣)

1200℃,低真空(機(jī)械泵)

1L:¥1.18 萬

4.5L:¥1.45 萬

12L:¥1.8 萬

1400℃,低真空

1L:¥1.45 萬

4.5L:¥1.65 萬

12L:¥1.99 萬

1700℃,高真空(分子泵組)

12L:¥3.2 萬

16L:¥4.2 萬

高配(觸摸屏 + 氣氛配比 + 安全聯(lián)鎖):上浮 ¥1~3 萬。

五、與真空箱式電阻爐的區(qū)別

真空氣氛爐:主打氣氛可控(通 N?/Ar/H?),真空 + 氣氛雙模式,適合防氧化、還原工藝。

真空箱式電阻爐:以真空為主,少通氣氛,側(cè)重真空燒結(jié)、退火,價(jià)格略低。

六、選購(gòu)要點(diǎn)

溫度:常用 1400℃(硅碳棒),1700℃選硅鉬棒。

真空度:普通實(shí)驗(yàn)選低真空;精密實(shí)驗(yàn)選高真空。

氣氛:常規(guī)用 N?/Ar;需還原選 H?(注意防爆)。

尺寸:按樣品量選,預(yù)留 20% 空間。

安全:超溫報(bào)警、過流保護(hù)、漏氣檢測(cè)、H?防爆設(shè)計(jì)。


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